Моделирование процессов химической функционализации углеродной поверхности квантово-химическими методами Доклады на конференциях
| Язык | Русский | ||||
|---|---|---|---|---|---|
| Тип доклада | Устный | ||||
| Url доклада | https://confhub.ru/rus/event/schedule/2234?date=2026-09-24#16796 | ||||
| Конференция |
Третья всероссийская школа-семинар по компьютерному моделированию АтоМ 22-26 сент. 2026 , Челябинская область, г. Челябинск, ул. Лесопарковая, д. 6 |
||||
| Авторы |
|
||||
| Организации |
|
Реферат:
В данной работе исследовано влияние концентрации кислородсодержащих функциональных групп (КФГ) на свойства графена в зависимости от их положения на поверхности. Рассчитаны энергия адсорбции этих групп, а также построены полные и проективные плотности состояний графена. Расчёты проводились квантово-химическими методами в рамках теории функционала плотности (Density Functional Theory, DFT) с использование программного пакета VASP (Vienna Ab initio Simulation Package) и метода машинного обучения Gaussian Approximation Potential (GAP).
Библиографическая ссылка:
Жойдик Е.Е.
, Сухачев Р.А.
, Мамонова М.В.
, Княжева О.А.
, Прудников П.В.
Моделирование процессов химической функционализации углеродной поверхности квантово-химическими методами
Третья всероссийская школа-семинар по компьютерному моделированию АтоМ 22-26 сент. 2026
Моделирование процессов химической функционализации углеродной поверхности квантово-химическими методами
Третья всероссийская школа-семинар по компьютерному моделированию АтоМ 22-26 сент. 2026